Компания TSMC на этой неделе заявила, что её сотрудничество с Nvidia стало взаимовыгодным. Ранее считалось, что TSMC в основном помогает Nvidia, массово производя для неё чипы. Однако теперь стало известно, что технологии Nvidia также способствуют улучшению качества и скорости производства чипов TSMC.
Одним из ключевых направлений является вычислительная литография и симуляция на уровне транзисторов, которые позволяют TSMC оптимизировать производственные процессы и ускорить разработку новых продуктов. Искусственный интеллект, поддерживаемый Nvidia, помогает быстрее разрабатывать чипы, осваивать массовое производство и контролировать качество продукции.
В частности, вычислительная литография позволяет TSMC создавать фотомаски для чипов на 20-50% эффективнее, чем традиционные методы, использующие CPU вместо GPU, при этом себестоимость остаётся неизменной. Для ускорения расчётов TSMC использует библиотеку cuLitho, разработанную Nvidia.
В области материаловедения TSMC применяет инструмент cuEST, который позволяет значительно ускорить симуляцию свойств материалов, увеличивая скорость химических расчётов в 50 раз. Библиотека cuML от Nvidia обеспечивает стабильность технологических процессов, позволяя использовать машинное обучение для контроля за производством. Также модели ИИ от Nvidia помогают оптимизировать логистику и производственные процессы TSMC, что позволяет максимизировать объёмы выпуска.
Для поиска дефектов в обработке кремниевых пластин TSMC использует платформу Metropolis и инструментарий TAO Toolkit. Искусственный интеллект адаптируется к изменениям в типах дефектов и не требует регулярного переобучения, что позволяет поддерживать высокое качество продукции без дополнительных временных затрат.
